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中心将引进高分辨场发射透射电子显微镜
发布人:施安峰  发布时间:2019-12-10   浏览次数:58

    中心将引进新设备-高分辨场发射透射电子显微镜,该设备由日本电子株式会社生产,型号为JEM-F200。

    该设备除进行常规的材料内部显微形貌、结构、晶体结构、高分辨成像、晶体位向和物相分析外,还可以利用3D 重构软件对材料的三维结构进行重构;以及利用电子能量损失普(EELS)表征不同原子及不同原子价态的分布。

    该设备的引进将有效拓展中心在材料显微测试分析的范围和能力,目前该设备已经顺利通过招标。届时,欢迎各位老师和同学前来洽谈咨询。

设备主要技术指标:

?电子枪:冷场场发射电子枪

?加速电压:20-200KV,连续可调,步长50V

?束流:≥ 2.5nA @ 0.7nm Probe Size

?能量分辨率:≤ 0.3 eV

?图像分辨率:   TEM点分辨率:≤ 0.23 nm

    TEM线分辨率:≤ 0.10 nm

         STEM暗场分辨率:≤ 0.16 nm

?放大倍数:TEM模式 ×20 - 2,000,000 

                          STEM模式×200 - 150,000,000

?标准双倾杆倾斜角度:X/Y ≥ ± 35°/± 30°

?能量过滤分析系统:    能量分辨率: 0.5eV

                                            图像畸变: 0.75%

?能谱系统:   探测器有效面积:≥ 2×100 mm2

                            能量分辨率:≤ 133 eV

           元素检测范围:B-U


 
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