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高分辨率双面对准曝光机
发布人:施安峰  发布时间:2019-12-12   浏览次数:59

型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/BSIR/M
厂商:美国ABM公司 


设备参数
    放大倍率:90X~600X可调
                       600X时图形分辨率3μm
    光源:11.8mW/cm2@365nm
               6英寸均匀光束
    均匀性:± 2-3%(4英寸)
                    ± 3-5%(6英寸)
    光刻分辨率:1μm
    曝光时间:0~999.9s
    模式:接近、真空硬接触、软接触
    5×5英寸真空掩模板夹持器
主要附件
    匀胶机、热板


主要用途:

    适用于2、3、4英寸硅片及不规则碎片和透明基片的光刻。

 
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